快盈VIII平台-三井化学将量产光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻机
宣布于：2025-11-14 12:34:48

日前，日本三井化学宣布将于其岩国年夜竹工厂设立碳纳米管 (CNT) 薄膜生产线，最先量产半导体最尖端光刻机的零部件产物（掩护半导体电路原版的薄膜质料“Pellicle”的新一代产物）。

据悉，此种CNT薄膜可以实现92%以上的高EUV透射率及跨越1kW暴光输出功率的光阻能力。三井化学预期年产能力为5000张，生产线预计在2025年12月落成，可为ASML将推出的下一代高数值孔径、高输出EUV光刻机提供撑持。

【近期聚会会议】7月25日14:00，CHIP China 晶芯钻研会行将结构举办主题为“进步前辈半导体量测与检测技术进展与运用”的线上聚会会议。诚邀您上线参会交流答疑，推动进步前辈半导体量测与检测技术的交流与碰撞，接待扫码报名：https://w.lwc.cn/s/fuQBbu

【2024快盈VIII平台-整年计划】隶属在ACT雅时国际商讯旗下的两本优异杂志：《化合物半导体》＆《半导体芯科技》2024年钻研会整年计划已经出。线上线下，同谋行业生长、工业前进！商机相助尽收眼底，接待您点击获�。ttps://www.siscmag.com/seminar/

-快盈VIII平台-