据外媒报导，于5nm及3nm制程工艺上，台积电及三星电子从阿斯麦采购了年夜量的极紫外光刻机，而随着制程工艺的进级，台积电及三星电子也需要采办更进步前辈的光刻机，于2nm如下的制程工艺上，就需要高数值孔径极紫外光刻机。
而外媒最新援引半导体工业内的消息报导称，于晶圆代工领域份额遥遥领先的台积电，将于月尾从阿斯麦吸收首台高数值孔径极紫外光刻机。
阿斯麦官网宣布的消息显示，他们的高数值孔径极紫外光刻机，将定名为EXE系列，数值孔径将由0.33增至0.55，用在2nm和如下的制程工艺。于此前所宣布的财报中，阿斯麦也曾经披露他们的EXE系列高数值孔径极紫外光刻机，已经有TWINSCAN EXE:5000及TWINSCAN EXE:5200两个型号，前者于2018年就已经最先获得客户的定单，后者于2021年四序度也获得了首台定单。
High NAEUV光刻机的引入，对于台积电而言，象征着于3nm和未来2nm制程技术下的产能将获得极年夜晋升，从而满意市场对于更进步前辈制造工艺的迫切需求。随着制程工艺的进级，台积电将可以或许于全世界半导体市场中盘踞越发有益的位置，与竞争对手如三星电子及英特尔等睁开更为猛烈的竞争。业内分析指出，台积电的这一举措将加重市场竞争压力，推动整个半导体行业的技术立异及生长。
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