来历：华中科技年夜学机械学院
“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这类软件，纵然有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到工业化运用，咱们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的洽商问题。”近日，我校机械学院刘世元教授团队乐成研发我国首款彻底自立可控的OPC软件，并已经于宇微光学软件有限公司实现结果转化及工业化，弥补了海内空缺。湖北卫视对于此举行了报导。
刘世元先容，光刻是芯片制造中最为要害的一种工艺，经由历程光刻成像体系，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不停缩�。杵系谋┕馔夹位嵩杏⑸�。于90nm甚至180nm如下芯片的光刻制造前，都必须接纳一类名为OPC（光学邻近校订）的算法软件举行优化。没有OPC，所有IC制造厂商将掉去将芯片设计转化为芯片产物的能力。
今朝，全世界OPC工具软件市场彻底由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美国公司占领。
刘世元是我校集成电路丈量设备研究中央、光谷试验室集成电路丈量检测技术立异中央主任。他早年师从原华中理工年夜黉舍长、闻名机械学家杨叔子院士，在1998年获工学博士学位。
2002年，从英国访学归国后不久，刘世元于学院调派下，作为最早的几个技术主干之一，加盟上海微电子设备有限公司(SMEE)，肩负国家863庞大专项——“100nm光刻机”研制使命，为整体组成员、节制学科卖力人。经由历程3年多的奋斗，他组建了SMEE第一个节制工程试验室，解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、暴光剂量等同步节制的技术难题。
“20年前加入国家的庞大专项，100纳米分辩率光刻机的研制，回到黉舍之后就一直于从事盘算光刻这方面的研究事情，坚持做基础的研究，做要害技术的攻关。”2005年，从上海回到黉舍以后，刘世元于探索中逐渐找准了自己的学术定位：面向IC制造需求，安身进步前辈光刻与纳米丈量基础理论和学术前沿开展研究。2010年头，他明确选定了两个主攻研究标的目的：面向IC纳米制造的盘算光刻与盘算丈量。十多年来，他及团队于该领域的基础理论与技术立异上做了许多事情，接踵获得海内外学术界及工业界偕行的器重及认可。
“2013年，我第一次赴日本京都加入第6届国际光谱椭偏学年夜会，其时另有只能当听众；到了2016年，于德国柏林召开的第7届国际光谱椭偏学年夜会上，我应邀做了年夜会主题陈诉，成为该学术聚会会议开办23年来第一名做年夜会主题陈诉的华人学者。”刘世元回忆道。如今，刘世元专注集成电路盘算光刻的基础研究已经有20余年。刘世元团队坚持最底层的代码一行行敲、最基础的公式一个个算，终究打造出自立可控的OPC软件算法。
刘世元体现，希望自己的研究结果可以或许终极转化成产物，为国家及社会生长作孝敬。今后，他将领导团队及他所建设的宇微光学软件有限公司加速产物推广法式，加速进入海内外芯片制造厂商市�。φ晌澜缧酒ひ盗粗兄饕囊换贰�
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