盘算光刻作为现代芯片制造光刻环节的焦点技术之一，其生长履历了从规则导向到模子驱动的改变。然而，随着制程迈向7nm以致5nm节点，传统要领因规则局限、优化自由度不足等制约，难以满意繁杂芯片设计的高要求。于此配景下，反向光刻技术（ILT）以其怪异的优化思绪应运而生。
ILT即从目标芯片图案出发，逆向推导获得最优化掩模图案，极年夜地晋升优化的矫捷性及精准度，更能满意进步前辈制程对于图形精度的苛刻需求。是以，于摸索7nm和如下制程的征途中，ILT技术无疑将是晋升制造良率的要害技术。特别于尖端光刻装备受限的海内情况下，其主要性更是不言而喻。 东方晶源ILT技术再度革新
ILT并不是一种新兴技术，但其存于诸如盘算量年夜效率低，掩模繁杂度高难在制造等技术难点，持久以来还没有获得广泛运用。作为摸索ILT技术的前驱之一，东方晶源ILT接纳GPU集群高性能盘算解决方案，解决了盘算量年夜的难题，率先实现了全芯片级另外基在ILT技术的掩模优化。面临7/5nm等进步前辈制程的迫切需求，近期东方晶源ILT解决方案又乐成攻克浩繁技术难题，包罗优化收敛性、结果一致性、人工智能加速、掩模繁杂度重整化等，今朝正于海内各年夜Fab厂商抓紧验证。
革新后的东方晶源ILT解决方案其重要特色和上风体现于如下几个方面： 01
独创的混淆掩模优化要领，显著降低盘算繁杂度，晋升总体盘算效率，尤其是于优化辅助暴光旌旗灯号的同时思量三维掩模效应，提供更为精准的掩模结果。 02
引入人工智能技术进一步解决ILT所需运算时间长的毛�。渖疃冉弈Ｗ油撇饪煊疺III平台-结果与ILT盘算结果相似度高达95%，同时获得近十倍的提速。 03
撑持矩形图形（Rectangle）、曼哈顿图形（Manhattan）以和曲线图形（Curvilinear）的差异繁杂度掩模设计，顺应差异客户和运用场景需求。
人工智能赋能东方晶源全芯片ILT解决方案
PanGen ILT?撑持天生差异繁杂度的掩模图形
PanGen ILT?结果相比传统OPC结果工艺窗口增年夜跨越10%
瞻望 东方晶源自2014年景立以来，于盘算光刻领域连续立异，构建了周全且领先的技术系统，旗下盘算光刻平台PanGen?已经经形成八年夜产物矩阵，包罗Model、DRC、SBAR、OPC、LRC、DPT、SMO、DMC，具有完备的盘算光刻相干EDA工具链条，并已经于海内各年夜Fab厂商广泛运用，量产掩模超6000张。随着ILT解决方案的不停革新，其于效率及性能上的上风越发突显，势必于进步前辈制程研发及运用中阐扬主要作用，于晋升良率、降低生产成本方面揭示出怪异的价值。瞻望未来，东方晶源将连续坚持技术立异，提供卓着的解决方案，为我国半导体工业的生长及前进孝敬智慧及气力。
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