来历：Silicon Semiconductor
SkyWater位在明尼苏达的工厂旨于拥有世界上开始进的200毫米光刻技术。
SkyWater Technology已经从 Multibeam Corp. 获得首款用在批量生产的多柱电子束光刻 (MEBL) 体系。Multibeam (MB) 平台是半导体行业的里程碑，它提供了一种高吞吐量直接写入图案化体系，其速率比传统电子束装备快几个数目级，生产效率更高。MB 体系将提供应 SkyWater 客户举行初期看法原型设计及快速生产。
“很兴奋能经由历程 Multibeam 革命性技术为客户提供新的光刻功效。MB 平台的部署将为宁静预防、生物医学、热成像、高靠得住性及高级盘算市场中从看法到生产的立异者拓展能力并缩短产物上市时间。”
MEBL 为 SkyWater 的客户提供多项新的生产能力，包罗用在防伪运用的宁静芯片 ID 及全晶圆图案化，可撑持焦平面读取 IC 及其他类型的年夜尺寸芯片。MEBL 另有为一系列高拓扑微流体及 MEMS 架构、光子学曲线设计及高密度 MOS 提供年夜聚焦深度。此外，它是唯一可以或许于 200 毫米晶圆上实现 50 纳米如下几何外形的生产光刻装备。
MB 平台立异配置了多个小型化电子束柱，将电子束光刻 (EBL) 晋升为突破性的无掩模光刻生产体系，为现今的 IC 晶圆厂带来了卓着的性能及成本上风。首套 Multibeam 体系的交付是已往两年来与 SkyWater 紧密亲密相助的结果。这次相助另有提供了要害晶圆厂的运营洞察，于将 MB 平台交付给 SkyWater 以前，这些运营洞察是用来界说要害体系的性能规格。
Multibeam 董事长兼首席履行官 David K. Lam 博士体现：“这对于 Multibeam 来讲是一个主要的里程碑，咱们很是自豪能与 SkyWater 分享这一里程碑。从咱们与 SkyWater 相助之初，他们就撑持咱们重新立异 EBL 以实现多量量生产的目标，并提供了要害的用户不雅点，资助咱们加速开发计划并贸易化世界一流的无掩模光刻体系。很是谢谢与其相助，很兴奋能将咱们的第一个生产装备配置于 SkyWater 晶圆厂。”
SkyWater 首席履行官兼董事 Thomas Sonderman 夸大了这项技术对于目标增加市场客户的价值，“咱们很兴奋可以或许借助 Multibeam 革命性的技术为客户提供新的光刻功效。MB 平台的部署将资助宁静预防、生物医学、热成像、高靠得住性及高级盘算市场中从看法到生产的立异者拓展能力并缩短上市时间。”
Sonderman 增补道：“咱们与 Multibeam 的相助，体现了相助同伴瓜葛于开发突破性装备，加速美国芯片立异方面的气力，并借此让 快盈VIII平台-SkyWater 位在明尼苏达州的工厂拥有了世界上开始进的 200 毫米光刻技术。”
SkyWater 将于2024年第四序度提供对于为装备首批客户设计的拜候权限。
原文链接：
https://siliconsemiconductor.net/article/119867/SkyWater_invests_in_MEBL
【近期聚会会议】7月31日14:00，CHIP China 晶芯钻研会行将结构举办主题为“进步前辈半导体量测与检测技术进展与运用”的线上聚会会议。诚邀您上线参会交流答疑，推动进步前辈半导体量测与检测技术的交流与碰撞，接待报名：https://w.lwc.cn/s/fuQBbu
【2024整年计划】隶属在ACT雅时国际商讯旗下的两本优异杂志：《化合物半导体》＆《半导体芯科技》2024年钻研会整年计划已经出。线上线下，同谋行业生长、工业前进！商机相助尽收眼底，接待您点击获取！https://www.siscmag.com/seminar/
-快盈VIII平台-
项目经理微信
移动版官网
